对于化合物的蒸发镀，在镀膜过程中由于高温的作用下，大部分化合物都会产生分解反应，当沉积到工件表面后会重新发生反应，但却不能完全变回分解前的等价化合物物，如三氧化二铝，被分解后再化合，很容易因为缺氧而形成低价化合物，为了避免这样的情况发生，一般会在镀膜时另外通过氧气来保证有足够的氧。
    所以要镀制容易分解的化合物，可以通过真空反应蒸发镀膜技术来实现，镀材选用低价的化合物或者金属，在镀膜时通入活性气体，和镀材蒸发进行化学反应，由于镀制高熔点化合物薄膜所需要的温度特别高，而过高的温度容易使化合物分解，所以反应蒸发镀膜技术常常使用在高熔点化合物薄膜的制备上，如在硅材的蒸发中加入氧气获得二氧化硅，在硅材的蒸发中加入乙炔获得碳化硅，在锆材的蒸发中加入氮气获得氮化锆，在铝材的蒸发中加入氩气和氮气获得氮化铝，在铝材的蒸发中加入氧气获得三氧化二铝。
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